Deutschland
Hersteller/ Fabrikant
CCR-Technology GmbH ist ein Hersteller für induktiv gekoppelte RF-Plasmaquellen für fortschrittliche Thin-Film Beschichtungen und Plasma Oberflächenbehandlungen. Wir beliefern Hersteller und Forschungseinrichtungen in den Märkten Optik, Solar, Wear & Decorative sowie den R&D Markt. Zu unseren Anwendungen und Zielbranchen zählen Plasma Enhanced Chemical Vapour depositions, „PECVD“ von Silizium, Kohlenstoff, Oxiden und Nitriden für Absorber-und Passivierungsschichten, optische Filter-Stacks, als auch für harte und schützende dekorative Beschichtungen. Das gesamte Unternehmen der CCR basiert auf der patentierten COPRA® Plasma Technologie, welches eine anspruchsvolle induktiv gekoppelte Plasma Anregung beinhaltet, die gegenüber herkömmlicher Plasma-Anregung durch ihre hohe Energie Effizienz, Skalierbarkeit und Zuverlässigkeit herausragt.
Hersteller/ Fabrikant
Camp-Spich-Strasse 3a
53842 Troisdorf - Deutschland
Deutschland
Vakuumwärmebehandlung (nach Norm AMS 2750E) Atmosphärische Wärmebehandlung Stationäre und mobile Wärmebehandlung
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Das Plasma wird bei der MEF-Technologie durch eine elektrisch behinderte Entladung generiert und als gebündelter Strahl mit Hilfe von Druckluft auf die Oberfläche ausgeblasen. Ob Einzeldüse für punktgenaue Vorbehandlung, Mehrfachdüsen für breitere Anwendungen oder mehrere Plasmamodule für flächige Substrate - jeder Kundenanwendung kann mit dieser Technologie Rechnung getragen werden. Um spezielle funktionelle Gruppen an der Polymeroberfläche zu erzeugen, können unterschiedliche Prozessgase eingesetzt werden.
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Chromierung in Packverfahren / Slurryverfahren Alitierung in Packverfahren
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Zeichnungsgerechtes manuelles Schleifen / Fräsen zur Wiederherstellung der Originalkontur Maschinelle Bearbeitung (CNC Fräsen, Schleifen) Erodieren (Draht- und Senkerodieren)
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