Galvanikanlagen für die chemische und galvanische Abscheidung auf Oberflächen.
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Ätz- und Entwicklungsanlagen zur Herstellung von Leiterplatten und Formätzteilen: Sprühätz- und Sprühentwicklungsverfahren und Schaumätzverfahren.
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Kompakte Galvanikanlage für die chemische und galvanische Abscheidung von Metallen in Vertikal-Technik.
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Das Einzelwannensystem TG mit einem Beckenvolumen von 5 l /10 l / 20 l und 50 l ermöglicht das individuelle Zusammenstellen von Behandlungsbecken. Die Tischgalvanisierwannen können als Galvanisier- oder Spülwannen eingesetzt werden. Ergänzende Optionen, wie eine aufsteckbare Warenbewegung, Gleichrichter, Bodenheizkörper mit Temperaturregler und Trommeleinrichtungen ermöglichen eine zuverlässige Oberflächenbehandlung für unterschiedliche Anwendungsbereiche.
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Geräte zum Anodisieren, Beizen und Elektropolieren von Titan, Titanlegierungen und Niob.
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